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Kopierer / Multifunktion

Kopierer / Multifunktion

Als Partner namhafter Unternehmen vermarkten und betreuen wir leistungsstarke Druck- und Kopiersysteme mit Laser- und Tintenstrahltechnologien sowie komplexe, erweiterbare multifunktionelle Systeme. Großformat-Plotter ermöglichen das Drucken von Dokumenten jenseits von A3. Die Einbindung von Druckern in bestehende Infrastrukturen übernehmen wir fachgerecht.
Multifunktionsprinter

Multifunktionsprinter

In den letzten Jahren hat der sogenannte "Kopierer" immer mehr Aufgaben im Büro übernommen und wurde so zu einem zentralen Multifunktionsgerät im Netzwerk Ihrer IT-Landschaft. Diese umfangreiche Funktionalität wurde geschaffen um möglichst alle Prozesse der Dokumentenverarbeitung zu unterstützen. Die vollkommen freie Konfigurierbarkeit der Systeme, ermöglicht es für jeden Benutzer, die immer wiederkehrenden Prozesse mit großer Zeitersparnis zu erledigen. Nachfolgend sehen Sie einen Ausschnitt aus unserem Portfolio. Multifunktionsdrucker Canon iR ADV DX C5850 iR ADV DX C5800i Serie Multifunktionsprinter Farbe 40-70 Seiten pro Minute Formate bis A3 Drucken, Scannen, Kopieren Netzwerk, Mobile Endgeräte Technische Daten Canon MFP iR ADV DX 4800 Serie iR ADV DX 4900i Serie Multifunktionsprinter schwarz-weiß 25-50 Seiten pro Minute Formate bis A3 Drucken, Scannen, Kopieren Netzwerk, Mobile Endgeräte Technische Daten Canon MFP iR ADV DX C3800 Serie iR ADV DX C3900i Serie Multifunktionsprinter Farbe 20-35 Seiten pro Minute Formate bis A3 Drucken, Scannen, Kopieren Netzwerk, Mobile Endgeräte Technische Daten MFP Canon iR2700i Serie iR 2900i Serie Multifunktionsprinter schwarz-weiß 25-45 Seiten pro Minute Formate bis A3 Drucken, Scannen, Kopieren Netzwerk, Mobile Endgeräte Technische Daten i-SENSYS X C1333 Serie i-SENSYS X C1333 Serie Multifunktionsprinter Farbe 33 Seiten pro Minute Formate bis A4 Drucken, Scannen, Kopieren Netzwerk, Mobile Endgeräte Technische Daten i-SENSYS X 1238 II Serie i-SENSYS X 1238 II Serie Multifunktionsprinter schwarz-weiß 38 Seiten pro Minute Formate bis A4 Drucken, Scannen, Kopieren Netzwerk, Mobile Endgeräte Technische Daten iR ADV DX C257/357 Serie iR ADV DX C259/359 Serie Multifunktionsprinter Farbe 25-35 Seiten pro Minute Formate bis A4 Drucken, Scannen, Kopieren Netzwerk, Mobile Endgeräte Technische Daten iR ADV DX 527/617/717i Serie iR ADV DX 529/619/719i Serie Multifunktionsprinter schwarz-weiß 52-71 Seiten pro Minute Formate bis A4 Drucken, Scannen, Kopieren Netzwerk, Mobile Endgeräte Technische Daten iR C1500 Serie iR C1500 Serie Multifunktionsprinter Farbe 30-38 Seiten pro Minute Formate bis A4 Drucken, Scannen, Kopieren Netzwerk, Mobile Endgeräte Technische Daten iR 1643i II iR 1643i II Multifunktionsprinter schwarz-weiß 43 Seiten pro Minute Formate bis A4 Drucken, Scannen, Kopieren Netzwerk, Mobile Endgeräte
Laser Lift Off (LLO) &  Laser Induced Forward Transfer (LIFT) für MikroLED und weitere Substrate

Laser Lift Off (LLO) & Laser Induced Forward Transfer (LIFT) für MikroLED und weitere Substrate

Excimer Laser-Lift-Off mittels Square- oder Line-Beam-System. Weitere Informationen unter https://lasermikrobearbeitung.de/ Ihre Vorteile: • Langjährige Erfahrung und technologische Kompetenz in der Laserbearbeitung von Display- und Halbleitersubstraten • Unser LIFT-Modul für den industriellen Massentransfer garantiert höchste Kosteneffizienz durch 10-fach höhere Transferraten gegenüber Wettbewerbstechnologien und bietet Ihnen damit ein enormes Kostensparpotenzial • Transferraten von bis zu 1 Mio. MikroLED pro Stunde • Substratgrößen: bis zu 4-Zoll-Donor-Wafer und 6-Zoll-Receiver-Wafer • Ab Frühling 2023: Große Flexibilität in der Substratgröße – 6-Zoll-Donor-Wafer und bis zu Gen. 2 Empfänger-Substraten • In unserem Reinraum ist immer die passende Laserquelle für Ihre Anwendung verfügbar – egal ob Sie einen Excimer-Laser mit einer hohen Flächenleistung für einen selektiven Einsatz bevorzugen oder lieber einen scannerbasierten Festkörperlaser bevorzugen. • Selektiver RGB-LIFT von drei Donor-Substraten und der Color-Conversion Ansatz über nur ein Donor-Substrat ist beides möglich Zusätzliche technische Informationen: • Chip-Größe bis zu 5 µm • Straßen-Breite bis zu 5 µm • Positioniergenauigkeiten von weniger als 1 μm möglich • Abstand zwischen Donor-Wafer und Empfänger-Substrat bis +50 µm • Geeignet für MikroLED, miniLED und LED • Nutzung unterschiedlicher Laserquellen Bearbeitbare Materialien sind u.a.: • Glass inkl. Saphir • Glass ohne Saphir • Polymere Einsatzgebiet: • Display-Industrie • Halbleiterindustrie • Medizintechnik • Forschung und Entwicklung Der Displaymarkt unterliegt einem ständigen Wandel und regelmäßigen Neuerungen - von LCD über OLED, bis hin zu miniLED. MikroLED ist das aufkommende „next big Thing“ im Bereich von Display. Es wird prognostiziert, dass 2024 Smartwatches und bis 2027 Flagship-Smartphones mit MikroLED-Displays ausgestattet sein werden. Auch der steigende Einsatz von VR- und AR-Brillen in Industrie und im Privaten fördert die Nachfrage nach hochauflösenden MikroLED-Displays. Um bereits jetzt auf die Anforderungen von morgen gefasst zu sein, stehen wir Ihnen als kompetenter, innovativer und zuverlässiger Partner zur Seite. Mithilfe unseres innovativen und Inhouse-entwickeltem Laser-Systems microCETI ist Lohnfertigung im Rahmen von µLED-Transfer und Trimming Ihrer Displaykomponenten nun möglich. Von Prototyping, über kleine bis mittlere Chargen. Als marktweit erster Hersteller eines LIFT-Modules für die Massenherstellung sind wir der ideale Partner für die Produktion Ihrer µLED-Displays mit langjährigem Know-How im Bereich Laser-Technologien. Dabei können wir für Sie die Schritte des LLO-, LIFT- und Trimming-Prozesses übernehmen. Einzeln oder in Kombination. Anwendungsbeispiele: • Transfer von MikroLEDs mit der LIFT Methode • Timming MikroLED • Laser Lift-Off von Substraten von Semiconductor Wafer • Printing of Biomolecule Microarrays and Sensors • Printing of Cells and Tissue Engineering • Polymerstack für Röntgensensoren, flexible Leiterbahnen, usw
Laserboxen aus Aluminiumprofil

Laserboxen aus Aluminiumprofil

Eine individuelle Anpassung an die Kundenwünsche und –anforderungen ist jederzeit möglich. Die max. Bauteilgröße beträgt 400 x 400 x 400 mm. Die Laserbox hat die Laserklasse 1 mit einem CE-Zeichen.
Xerox Colour C60/C70

Xerox Colour C60/C70

Der Xerox® Colour C60/C70 Printer bietet Anwendungsvielfalt und professionelle Bildqualität. Darüber hinaus ist er flexibel genug, gemeinsam mit Ihrem Unternehmen zu wachsen. Kurzüberblick - Xerox® Colour C60/C70 Printer - Kopieren, Drucken, Scannen, Faxen, E-Mail - Ideal für Produktionsdruckanwendungen mit hohem Grafikanteil und kleiner Auflage - Farbe: bis zu 60/70 Seiten/Min. in DIN A4 - Schwarzweiß: bis zu 65/75 Seiten/Min. in DIN A4 - Standard-Papierkapazität: 3.260 Blatt - Maximale Papierkapazität: 7.260 Blatt
Rolle-zu-Rolle-Laserbearbeitung mittels Kurz- und Ultrakurzpulslaser

Rolle-zu-Rolle-Laserbearbeitung mittels Kurz- und Ultrakurzpulslaser

Neben der Bearbeitung von starren und flexiblen Materialien auf starren Trägersubstraten bieten wir die Bearbeitung von flexiblen Materialien im Sheet-zu-Sheet oder im Rolle-zu-Rolle-Verfahren an. Weitere Informationen unter https://lasermikrobearbeitung.de/ Ihre Vorteile mit der Rolle-zu-Rolle-Technologie: • Lasermikrostrukturierung und -Ablation • Laserbearbeitung „On-the-Fly“ oder „Step and Repeat“ • Rollenbreiten bis zu 300 mm möglich Einsatzgebiet: • Flexible Elektronik in der Medizinindustrie • Flexible Photovoltaik Zellen • Display-Industrie • Halbleiter-Industrie Neben der Bearbeitung von starren und flexiblen Materialien auf starren Trägersubstraten bieten wir die Bearbeitung von flexiblen Materialien im Sheet-zu-Sheet oder im Rolle-zu-Rolle-Verfahren an. Anwendungsbeispiele: • Dünnschichtabträge auf Rollenmaterial (z.B. Metall auf PET) • Freilegen von Leiterbahnen • Anrauhen von Lötpads
OCF - Laser Annealing für Power Device Applikationen

OCF - Laser Annealing für Power Device Applikationen

Die Bildung von ohmschen Kontakten auf der Rückseite von SiC-Leistungsbauelementen spielt eine Schlüsselrolle bei der Bestimmung der elektrischen Eigenschaften und der mechanischen Festigkeit. Weitere Informationen unter https://lasermikrobearbeitung.de/ Ihre Vorteile mit unserer OCF-Technologie: • Homogene Prozessergebnisse durch Spot-Scanning • Flexible Programmierung und großer Parameterbereich für Testmuster • Bildet ohmsche Ni-Silizid-Grenzflächen • Machbarkeitsstudien und Rezepturentwicklung mit Ihren Mustern in unserem Labor • Hohe Flexibilität - perfekt geeignet für F&E-Ansätze • Prototyping und Co-Entwicklung möglich - Rezepturentwicklung für Ihre Metall-Stacks • 200 mm Waferbearbeitung - besonders geeignet für dünne Wafer Zusätzliche technische Informationen: • Laser-Sensor-Paket • Logfile-Funktion / Zugriffsrechteverwaltung • Standard-Waferdicke: 100 - 500 μm • Eignung für Wafer auf Glasträger Bearbeitbare Materialien sind: • Silizium (Si) • Siliziumkarbid (SiC) Einsatzgebiet: • Halbleiterindustrie • Power Devices Der Markt für Leistungsbauelemente aus Siliziumkarbid (SiC) verzeichnet ein zweistelliges Wachstum, was auf die Vorteile von SiC bei der Steigerung der Leistungseffizienz und der Minimierung von Energieverlusten in Anwendungen wie Elektrofahrzeugen und Hybridfahrzeugen, Stromversorgungen und Solarwechselrichtern zurückzuführen ist. Die Bildung von ohmschen Kontakten auf der Rückseite von SiC-Leistungsbauelementen spielt eine Schlüsselrolle bei der Bestimmung der elektrischen Eigenschaften und der mechanischen Festigkeit des Bauelements. Traditionell wurden für die OCF auf der Rückseite von SiC-Wafern thermische Annealingprozesse mit Blitzlampen mit Millisekunden-Pulsen verwendet. Da für diesen Prozess Temperaturen von über 1000 °C erforderlich sind, die sich nachteilig auf die Strukturen auf der Vorderseite der Wafer auswirken können, sind Blitzlampen auf Waferdicken von 350 Mikrometern und mehr beschränkt. Da die Industrie nun zu dünneren SiC-Leistungsbauelementen übergeht, um die elektrische Leistung und das Wärmemanagement zu verbessern, werden neue Annealingverfahren benötigt, die diese thermischen Auswirkungen minimieren. Das Laserannealing mit UV-Nanosekundenpulsen bietet die hohe Präzision und Wiederholbarkeit, die für OCF auf der Rückseite von SiC-Wafern erforderlich ist, und stellt gleichzeitig sicher, dass die Wafervorderseite nicht thermisch beschädigt wird, was die Leistung der Bauelemente beeinträchtigen kann.